真空均質乳化設備

50L--2000LEV、CM系列真空均質乳化設備 
用途：
EV、CM型系列乳化鍋是我廠制造的新型真空乳化裝置，該裝置吸收了國內外同類產品的優點，由有關專家成功設計，結構新穎，乳化效果好，能耗小，使用可靠，鍋內外拋光處理，美觀大方。
EV型特點：
乳化鍋乳化過程是在全密封條件下進行的，鍋內物料通過下均質機的高速內循環剪切混合乳化，上刮板攪拌器在運轉時產生離心作用，使四氟刮板緊貼鍋壁，有效的解決了鍋壁沾料問題，有效防止了灰塵和微生物的污染，乳化后的產品光亮細膩，顆粒直徑最小可達3~5μm。
CM型特點：
該種型號乳化鍋是在引進設備的基礎上改進的，是目前國內生產中高檔乳劑，膏霜類產品設備，設計合理、工藝*，各項技術參數均可與國際八十年代同類產品相比美，比意大利TE-3型和日本YQ型真空均質乳化鍋均質系統的剪切次數大2倍以上，物料均質后細膩均勻、光亮度特別好。該設備的均質系統采用推進擠壓蝸輪剪切結構，物料由推進葉輪送至均質機，通過葉齒蝸輪（動態）和二個固定齒圈進行均質工作，當葉輪高速旋轉時產生的吸力將物料先后推進擠壓和蝸輪剪切達到均質目的。均質機工作時，可根據物料粘度的不同情況，關閉鍋體與均質機管路之間的閥門進行內循環和外循環均質，可以保證全部物料有機會均等乳化。同時，均質機可兼作出料泵和清洗泵之用。*的刮板攪拌器在運轉時產生的離心率作用下聚四氟乙烯刮板緊貼鍋壁，有效地解決了鍋壁沾料問題，不留死角，理想的變頻調速裝置可使其轉速任意無級調速。該設備在鍋臺上裝有*的視鏡裝置，配有封閉式照明燈，供操作人員隨時觀察物料乳化情況。整套設備加熱、冷卻在同一夾套內完成，夾套外設有硅酸鋁保溫層，層外有拋光至鏡面的不銹鋼裝飾板，一則可節省加熱、冷卻時間，二則可防止操作工人燙傷，確保生產安全。